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Beca Artus-ICPNA Wiels

Lima, Perú.-. Con el objetivo de incentivar el crecimiento artístico, la reflexión creativa y el desarrollo profesional de jóvenes artistas peruanos, el Instituto Cultural Peruano Norteamericano (ICPNA) y ARTUS realizaron la convocatoria al Programa de Residencia Artística Wiels en Bruselas (Bélgica).

Los finalistas fueron seleccionados por la curadora independiente Florencia Portocarrero. Mientras que el jurado conformado por el Alberto Servat, gerente Cultural del ICPNA; Dirk Snauwaert, director artístico de Wiels Contemporary Art Center; y designado por ARTUS Bartomeu Mari, director del MALI, eligieron a la artista plástica arequipeña María José Murillo, quien participará de un programa de mentoría durante seis meses donde podrá interactuar con profesionales dentro de la vida artística y cultural de Bruselas.

En la Residencia Wiels, María José contará con un estudio de trabajo individual, así como, apoyo económico para su manutención y el desarrollo de su producción. Además, participará en las actividades desarrolladas dentro del programa para residentes, tutorías semanales, una presentación pública durante la residencia y un viaje de campo.

Cabe destacar que Wiels alberga artistas contemporáneos emergentes y de media carrera de diversas partes del mundo, mientras que Artus, apoya a artistas visuales peruanos contemporáneos, brindándoles acceso a residencias artísticas en el extranjero.

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